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IUC#40
日時：2006年11月1日(水曜日) 13:30-
場所：KEKBコントロール棟会議室
出席者(順不同・敬称略)：
小川、本間、飯田、紙谷、諏訪田、春日、三橋、小林、
菊池、柿原、船越、佐藤(文責)
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(1) KEKBライナック陽電子源へのFlux Concentrator 導入と同時入射スキームへの問題提起 (紙谷)

・現在、BINPと共同で、Flux Concentratorを製作中である。(Linacへのインストールは、2008年夏以降を予定）)
　従来のパルスコイル磁場(2-T)と比較して、強ソレノイド磁場が得られる(6から10-T程度）。
現在の穴あきターゲット(e-通過用）を使用する場合、Flux Concentratorのアパーチャを広げる必要があり、
横方向磁場によるビームキック及び必要電力の増大により、製作が困難である。
（アパーチャΦ12mmが必要となる。現試作機ではΦ8mm。）

・そこで、e-/e+高速切り替え用パルスステアリング設置までは、
ターゲットを短い距離だけ出し入れ（標的<=>e-通過用孔の位置）する案はどうか？

C) Flux Concentrator用電源はどの様な物か？
=> 幅20us-30usのハーフサインである。

C) ターゲットの出し入れに時間を要すれば、スタディ時にはやはり問題になるであろう。
(詳細根拠は下記の通り）
・e+モード時にビームが来ないのは困る。
・スタディ時には連続ビームが要求される故、モードの切り替えの周期が数十秒でも不便である。
・2次電子を使用するのはビームの質が通常と異なるので、スタディーの意味がない

C) PFにパルス電源/パルスマグネットの予備品がある。(パルス幅6us, 2500A, Gap 80mmの物が4台ある)
繰り返しは、最大25Hzだが、使えるのではないか？

C) パルスステアリングは何台必要か？

=> 最低３台だが、４台が望ましい。

==> PFの予備品を、来年夏にインストールする方向で検討してはどうか？

===> 設置スペースの調査を含め、検討を行う。
まずは、DCステアリングでバンプ軌道でターゲットの孔を通すスタディーを進める。

C) e-/e+の同時入射を行うためには、入射Phaseも高速に切り替える必要がある。
=> 来年夏までには、可能となる。

C) 共通OpticsでKEKB入射のスタディを行うべきである。
PFは、何度か入射した実績があるが、KEKB e-リングへの入射は試験していない。

C) e+モードも考慮した共通オプティクスを検討すべきである。

C) PFへの入射をA1電子銃からにする？いつから行うか？
共通Opticsを使わなくとも、通常入射にA1電子銃を用いて練習した方がよい。

C) 今後の予定を明確にするべきである。。
=> ロードマップを作成する。