FROM10 　光源加速器２／粒子源　 8月7日 あいあいホール 14:30 - 14:50

ERL を利用した EUV-FEL 光源の設計

Design work of EUV-FEL light source based on Energy Recovery Linac

○宮島 司（高エネ研）

○Tsukasa Miyajima (KEK)

半導体製造のための次世代リソグラフィー技術として、極端紫外線(EUV)リソグラフィの開発が進められている。そのための光源として、13.5 nm の波長をもつレーザープラズマ光源の開発が進められており、現在 100 W 程度の出力が得られる状態となっている。レーザープラズマ光源では最終的に 250 W の出力が見込まれているが、その次の世代のEUV光源では、10 kW というより高い出力が要求される。これを満たす光源の一つとして、エネルギー回収型線形加速器(Energy Recovery Linac, ERL)と自由電子レーザー(Free Electron Laser, FEL)を組み合わせた EUV-FEL 光源が、一つの有力な候補となっている。KEK では、ERL 実証機として開発した compact ERL (cERL)のビーム試験を通して、EUV-FEL 光源実現に欠かせない高輝度大電流電子源と超伝導加速空洞の技術開発を着実に進めており、これらの試験で実証された性能を基に EUV-FEL 光源の検討を開始している。本発表では、EUV-FEL 光源の設計方針とその進捗状況について報告する。