WEP034 　加速器技術／粒子源　 8月5日 小ホール 13:00 - 15:00

短パルスレーザー生成イオンのRF同期加速によるイオン源

RF Synchronized Acceleration of Ions Produced by Short Pulse Laser

○不破 康裕，岩下 芳久，頓宮 拓，井上 峻介，橋田 昌樹，阪部 周二（京大化研），岡村 昌宏（BNL），山崎 淳（名大工）

○Yasuhiro Fuwa, Yoshihisa Iwashita, Hiromu Tongu, Shunsuke Inoue, Masaki Hashida, Shuji Sakabe (KUICR), Masahiro Okamura (BNL), Atsushi Yamazaki (Nagoya Univ.)

イオンビームの加速には通常RFQが用いられるが、従来のイオン源は連続的なビームを生成するために、RFQのタンク前半部ではイオンビームのバンチングが行われ加速はほとんどされていない。イオン源においてバンチ化されたビームが生成でき、それを直接マイクロバンチとして加速できれば、RFQ全体でビームが加速でき加速効率の向上が期待できる。 本研究では、初期状態でバンチ化されたイオンビームを生成するために短パルスレーザーを用いた新しいレーザーイオン源を開発している。このイオン源では高周波電場中でレーザープラズマを生成し、そのプラズマ中のイオンを膨張前に加速しバンチ化されたイオンビームを生成する。この発表では、レーザープラズマ中のイオンの加速実証実験及び加速イオンの分析実験の結果を報告する。