WEP048 　加速器技術／高周波加速空胴　 8月5日 小ホール 13:00 - 15:00

ニオブ製1セル加速空洞縦型電解研磨の研磨内面均一化

Homogeneous Inner Surface Polishing of Nb 1-cell Cavity Vertical Electro-Polishing

○仁井 啓介，Chouhan Vijay，山口 隆宣，石見 清隆，井田 義明（マルイ鍍金工業株式会社），早野 仁司，加藤 茂樹，佐伯 学行，文珠四郎 秀昭，沢辺 元明（高エネルギー加速器研究機構）

○Keisuke Nii, Vijay Chouhan, Takanori Yamaguchi, Kiyotaka Ishimi, Yoshiaki Ida (Marui Galvanizing Co., Ltd), Hitoshi Hayano, Shigeki Kato, Takayuki Saeki, Hideaki Monjushiro, Motoaki Sawabe (High Energy Accelerator Research Organization (KEK))

ニオブ製超伝導加速空洞の性能向上のため、最終表面処理に電解研磨（EP）が行われている。現在は主に空洞を横向きに配置する横型電解研磨法（HEP）が用いられている。これは、内面の研磨均一性は良好であるが、量産性に課題を残している。この量産性の解決のため、空洞を縦向きに配置する縦型電解研磨法（VEP）が提案されている。しかしながらVEPは、研磨時の内面均一性に課題があるため、解決が望まれている。マルイ鍍金工業ではこれまでに蓄積したEPのノウハウを生かし、KEKと共同でVEPの研磨内面均一性向上のための技術開発に取り組んできた。今回、空洞内研磨面分析を可能にしたクーポン空洞と独自構造の可変翼状部を備えた陰極の作製、それらを用いた最適なEP条件出しとクーポン分析を行い、内面均一性の向上を確認したので報告する。